氨氣干燥裝置、氨氣凈化設(shè)備
氨氣干燥裝置、氨氣凈化設(shè)備
氨氣干燥裝置、氨氣凈化設(shè)備原理:
氨氣干燥裝置、氨氣凈化設(shè)備是利用分子篩吸附原理,深度干燥液氨,從而獲得露點(diǎn)低于-60℃純凈的氨氣。
氨氣中水份的脫除主要采用的是選擇吸附的原理,一切固體物質(zhì)表面都有一種不飽和力場,其作用范圍相當(dāng)于分子直徑大小。因此對于接觸固體物質(zhì)的表面的氣體分子具有一定的吸附作用。只有多孔物質(zhì)具有很大的內(nèi)表面積,才有明顯的吸附效應(yīng)。對于氨氣中水份的吸附主要采用物理吸附的方式。在一定的溫度下,解吸速度等于吸附速度時(shí),達(dá)到吸附平衡。
氨氣干燥裝置、氨氣凈化設(shè)備技術(shù)參數(shù):
氣 量:5--1000m3/h
露 點(diǎn):≤-60℃
氨氣純度:≥99.99%
出口壓力:0.1-0.3Mpa可調(diào)
油 含 量:<1ppm
氨氣干燥裝置、氨氣凈化設(shè)備特點(diǎn):
1、全自動(dòng)運(yùn)行、實(shí)現(xiàn)無人值守;
2、氣體指標(biāo)穩(wěn)定、雜質(zhì)含量低;
3、全不銹鋼材質(zhì)、安全防爆;
4、獨(dú)特的放空洗氨氣裝置,實(shí)現(xiàn)放空無氨味。
高純氨氣作為一種重要的特種氣體,廣泛應(yīng)用于電子、化工、冶金、鋼鐵等工業(yè)方面的研究和生產(chǎn)中。在電子工業(yè)中,高純氨是不可缺少的原材料之一。它主要用于LED外延工藝、集成電路制造、太陽能電池、化合物半導(dǎo)體、液晶顯示器、光導(dǎo)纖維、滲氮熱處理等領(lǐng)域 。
氨氣干燥純化設(shè)備由二只干燥器和德國寶德的電磁閥、山明氣動(dòng)閥組成,兩只干燥器全自動(dòng)控制切換,干燥器一只工作時(shí)另一只再生,以達(dá)到24小時(shí)不間斷運(yùn)行。
氨氣干燥裝置、氨氣凈化設(shè)備工藝流程簡介:
氨氣純化裝置采用了吸附干燥工藝。來自液氨儲(chǔ)存系統(tǒng)的氨氣,進(jìn)入干燥器,被干燥器中的3A分子篩吸附,從而獲得露點(diǎn)低于-60℃純凈的氨氣。由于分子篩經(jīng)過一定時(shí)間的使用后會(huì)飽和,因此必須對分子篩再生,再生時(shí)把分子篩加熱到250℃以上,同時(shí)通入少量氮?dú),使分子篩脫附的水汽被再生氣帶走,再生后的分子篩經(jīng)冷卻后可重復(fù)使用。
產(chǎn)地:蘇州產(chǎn)品型號(hào):NHP-5-2價(jià)格:78000 發(fā)布時(shí)間:2014-12-4
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