美國高溫真空實驗室爐

發(fā)布時間：2013-4-15 9:28:08

  美國MRF公司
專門為研究院、高校提供高質量的高溫、高真空和可控氣氛爐，能提供從小型的試驗研究用爐到各種生產用爐。由MRF設計、制造的高溫爐具有多種選擇范圍，包括用于燒結和脫臘、熱壓、壓力輔助燒結、金屬化及混燒、熱處理及釬焊、反應粘結、cvd、cvi（化學氣相沉積）及水晶生長、物理檢測等的各種用途。處理的材料有電子、陶瓷、特種材料、難熔金屬、光學纖維等。
產品
各種真空試驗爐：鎢、鉬、鉭、和石墨加熱元件，1000℃到3000℃，真空、氫氣氣氛、惰性氣體和特種氣體，有效工作區(qū)：直徑：51mm-508mm，高度：102mm-914mm，真空度0.1Torr
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M型前裝料多功能爐：鎢、鉬、鉭、石墨及陶瓷熱區(qū)，具有多種選項配置:高真空系統（）、氫氣系統、快速液體淬火裝置、晶體生長裝置、小型熱壓裝置、HMI/PC人機交互計算機控制系統
陶瓷及金屬材料的低壓真空燒結爐
小型電弧熔煉爐（實驗室）：單電極或三電極熔煉爐，*高溫度3800℃，水冷鐘罩，用于高熔點金屬或合金的高純度熔煉，并轡有晶體生長附件，試件盤51mm-228mm
化學氣相沉積爐（cvd）、化學氣相滲透爐（cvi）
熱壓爐：5噸-100噸，石墨熱區(qū)爐*高溫度2350℃，金屬熱區(qū)為1000℃到2000℃
氣壓爐：陶瓷粉末、金屬陶瓷粉末及金屬粉末致密化真空等壓爐，1mpa-10mpa
難熔金屬燒結爐（鉭電容器高真空燒結爐、鉭絲連續(xù)退火爐、鎢材料、鉭材料燒結爐、脫脂爐）
高溫物理性能試驗機配套用爐：帶金屬波紋管、頂部和底部水冷物理實驗壓頭和高溫夾具，*高溫度達2000℃
惰性氣體及氮氣的除氧裝置：處理后的氣體純度超過6ppm
連續(xù)爐（多室）：惰性氣體和氫氣氣氛，*高溫度2300℃
連續(xù)爐和釬焊爐：1000℃到3000℃
臥式和立式管式爐：直徑：52mm-152mm，高：152mm-1016mm，靜止或旋轉爐室，可選擇馬弗管用于可控氣氛或氧化氣氛
可用于：釬焊、陶瓷燒結、脫氣、熱處理、熔融、燒結
工作溫度：500℃-3000℃
工作氣體：真空、氫氣、氮氣、氬氣、氦氣、空氣及其他特殊氣體
工作真空度：
直徑：51mm-508mm，高度：102mm-914mm
熱區(qū)：鎢、鉬、鉭、石墨
裝爐量：幾克到500公斤
控制系統：標準智能化儀表或hmi計算機控制系統
Mrf實驗爐在出廠前已完全組裝，水、氣管路及連接已接好，到現場后系統可以直接運行。
熱區(qū)部件方便取出，易于維修。配件觀察窗、熱電偶艙口及根據要求增加備用艙口。
電源引入艙口和真空泵艙口安裝在底部，連同氣、水管路封裝在底部柜式支架內。
真空系統配件機械泵或擴散泵、分子泵、冷凝泵，配置冷卻檔板及電氣動高真空閥，電離真空計及其它真空元件。在充填惰性氣體前抽真空到0.1toor
可以選擇不同工藝氣體，對特殊氣體需求，請和mrf廠商協商。
根據50-80℃/分鐘的升溫速度設計電源系統，三相scr可控硅電源經濟、有效的調制功率，加熱功率穩(wěn)定、*。從主變壓器到加熱元件之間由帶水冷的電纜連接。配備電壓、電流表檢測電源。